Caratterizzazioni Elettriche
In questo laboratorio vengono effettuate misure elettriche tendenti a caratterizzare il comportamento di dispositivi sensoristici nei confronti di varie tipologie di ambienti. I vari dispositivi sensoristici di tipo resistivo vengono alloggiati in apposite camere di misura a tenuta stagna e, dopo avere imposto loro una tensione di polarizzazione, vengono registrate le variazioni di corrente indotte dalla presenza di composti chimici sotto forma di gas o di vapore. Le correnti che possono essere misurate partono dai femtoAmpere (= 1,0×10-15 Ampere) sino agli Ampere, mentre le capacità misurabili vanno da 10 femtoFarad (= 1,0×10-14 Farad) sino a 100 microFarad (= 1,×10-4 Farad). Le componenti gassose vengono erogate con un sistema di Mass Flow Controller pilotati da un PC.
E’ inoltre possibile effettuare misure su microbilance al quarzo nel qual caso si registrano le variazioni di frequenza di oscillazione propria dei quarzi al variare delle concentrazioni degli analiti sotto esame. Misure di analisi di componenti, circuiti e sistemi nel dominio della frequenza vengono effettuate con un Frequency Response Analyzer, utile in particolare con materiali inorganici. I seguenti materiali costituenti le membrane sensibili dei sensori sono stati caratterizzati: polimeri, ceramiche, materiali nanostrutturati, mesostrutturati, compositi. Oltre che i sensori chimici sono stati caratterizzati anche sensori biologici e fisici.
STRUMENTAZIONI
STRUMENTAZIONE: Mass Flow Controller Systems
FINALITA’ SCOPO: Il laboratorio è attrezzato per effettuare calibrazioni di sensori per gas a concentrazioni controllate. Esso alloggia una serie di mass-flo controllers (MKS, Environics) per generare flussi di gas controllati alloggiati all’interno di tre cappe chimiche. I Mass Flow Controllers (MFC) hanno diversi range di portata dei gas: 0.2–10 sccm (standard cubic centimeters per minute), 4–200 sccm e 40–2000 sccm. A valle sono poi implementati i sistemi di misura per la valutazione delle performances dei sensori.
Referente: Andrea Bearzotti
STRUMENTAZIONE: Mask Aligner Electronic Vision CO. AL4-2
FINALITA’ SCOPO: Strumento che basa il suo funzionamento sul processo della litografia, normalmente utilizzato nella produzione di circuiti integrati. È situato in una camera bianca (cleanroom) per eliminare quanto più possibile la presenza di polveri, che potrebbero depositarsi sui materiali in lavorazione inficiandone il risultato finale. Tale strumentazione viene utilizzata nel nostro laboratorio per lo sviluppo e la produzione di elettrodi interdigitati, su fette di silicio passivate, da poter essere successivamente impiegati nel campo della sensoristica come elementi trasduttori.
Referente: Andrea Bearzotti